Bonjour,
 
Je recherche des informations sur les techniques de dépot de matière par CVD (chemical vapor deposit) et plus particulièrement le CVD sur lit fluididé.
J'ai pas trouvé d'explications simples sur google. Pourriez-vous m'expliquer le principe de fonctionnement?
 
Merci d'avance,

Il faut une colonne avec tamis un un lit de microbilles par exemple.
Tu as un flux (gaz voire liquide) supra A.
Tu as un flux infra (gaz) B qui perturbe le lit qui est le siège de la réaction A + B.
Après il peut y avoir des adjonctions : catalyseur par exemple.

Deja c'est Chemical vapour deposition.  
 
Un passage par les pages wikipedia s'impose pour commencer:
http://fr.wikipedia.org/wiki/D%C3% [...] ase_vapeur
http://en.wikipedia.org/wiki/Chemi [...] deposition
 
Une fois que tu aura interiorisé ca, on pourra passer a des trucs plus compliqués.

Merci pour vos réponses. En ce qui concerne le dépot sur lit fluidisé, je n'ai trouvé qu'un seul schémas :

 
Dans mon cas, cette technique est utilisé pour déposer un revètement (Al ou Cu) sur des grains de poudre WC.
Si je comprend bien, on met un tamis (en bleu sur le schémas) sur lequel on déposé la poudre à revétir. Ensuite, on vient faire passer du gaz contenant le cuivre ou l'alu qui va venir se déposer sur les poudres.
 
Par contre, comment déclencher la réaction pour que le dépot se fasse bien sur les poudres? La A de l'explication de um66000 est ce les poudre WC et le B le gaz contenant l'Alu ou le cuivre ?
 
Pour finir, je n'ai pas trouvé les équations chimiques qui rentrent en jeu dans la réalisation d'un dépot de Cu ou d'Al. Est ce que quelqu'un pourrait me les donner pour le cuivre ou l'alu?
 
Merci d'avance de votre aide,